来源:新浪证券-红岸工作室
7月22日消息,国家知识产权局信息显示,九江德福科技股份有限公司申请一项名为“一种高速板铜箔处理面涂覆亚克力硅烷偶联剂的方法及涂覆循环系统”的专利。申请公布号为CN122424984A,申请号为CN202610658145.3,申请公布日期为2026年7月21日,申请日期为2026年5月13日,发明人倪荣虎、张豪、马磊、宋云兴、刘亚豪,专利代理机构上海光华专利事务所(普通合伙),专利代理师付晓飞、许亦琳,分类号B05D7/14、B05D7/24、B05D5/00、B05C11/10、C09D183/06。
专利摘要显示,本发明提供一种高速板铜箔处理面涂覆亚克力硅烷偶联剂的方法,包括步骤:配制偶联剂涂覆液:按比例量取纯水、乙醇、亚克力硅烷偶联剂,控制pH 3.3~6.0条件下,将乙醇、亚克力硅烷偶联剂加入纯水中,混合水解,得偶联剂涂覆液;配制清洗液:按比例量取纯水、乙醇、硫酸,混合得清洗液;在高速版铜箔处理面上涂覆偶联剂涂覆液,涂覆过程中始终保持涂覆面pH 3.3~6.0,保持涂覆液中亚克力硅烷偶联剂浓度稳定,涂覆完成后采用清洗液清洗,再采用纯水清洗,至清洗的水溶液至中性即可;本发明还提供一种亚克力硅烷偶联剂的涂覆循环系统,包括混合配制单元、涂覆单元、pH控制单元和硅烷补偿单元,本发明的方法解决现有技术中亚克力硅烷溶液涂覆过程中不稳定、缩合凝胶的问题。
德福科技是国内高性能电解铜箔领域领先企业,专注锂电铜箔等核心产品研发制造,具备深厚技术积累与全产业链配套优势。公司成立于1985年9月14日,2023年8月17日在深圳证券交易所挂牌上市,注册及办公地点均位于江西省九江市。
公司主营业务为各类高性能电解铜箔的研发、生产和销售,按申万行业分类隶属于电力设备-电池-锂电池板块,同时布局铜箔、复合集流体(PET铜箔)、储能等热门概念赛道。
2025年,公司实现营业收入124.37亿元,在32家同行业可比公司中排名第8,该行业当期营收第一名宁德时代为4237.02亿元、第二名欣旺达为632.46亿元,行业平均营收237.67亿元,行业中位数为58.7亿元;营收结构中锂电铜箔贡献100.26亿元,占比80.61%,电子电路铜箔贡献17.81亿元,占比14.32%,其他业务收入6.3亿元,占比5.06%。同期公司实现净利润2.45亿元,行业排名第9/总家数32,行业净利润榜首为宁德时代767.86亿元,第二名亿纬锂能为43.02亿元,行业平均净利润27.11亿元,行业中位数为6398.64万元。
指标类别 具体指标 数值/详情 核心经营数据 2025年营业收入 124.37亿元 核心经营数据 2025年净利润 2.45亿元 营收构成 锂电铜箔 100.26亿元,占比80.61% 营收构成 电子电路铜箔 17.81亿元,占比14.32% 营收构成 其他业务 6.3亿元,占比5.06% 行业排名 营业收入 8/32 行业排名 净利润 9/32
九江德福科技股份有限公司近期专利情况如下:
序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1一种高速板铜箔处理面涂覆亚克力硅烷偶联剂的方法及涂覆循环系统发明专利公布CN202610658145.32026-05-13CN122424984A2026-07-21倪荣虎、张豪、马磊、宋云兴、刘亚豪2一种铜箔钝化处理自动调节系统及其控制方法发明专利公布CN202610642382.02026-05-11CN122406202A2026-07-17方文杰、姜安坤、胡杰、王德用3一种复合铜箔及其制备方法发明专利公布CN202610606686.12026-05-06CN122406226A2026-07-17吴坤、肖頔、吴莹、易昌鸿、金荣涛、孙文强4一种利用多源碱代替液碱处理铜箔废水的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610574204.92026-04-28CN122254697A2026-06-23余晖龙、罗佳、吴波、朱吉平5复合集流体及其制备方法、负极片和二次电池发明专利公布CN202610567081.62026-04-27CN122393310A2026-07-14袁楚平、梁耀华、杨红光6电镀实验装置发明专利实质审查的生效、公布CN202610528749.62026-04-21CN122303995A2026-06-30陈祥浩、佟硕、汪聪、吴帮正7一种超低轮廓厚电解铜箔的制备方法发明专利公布CN202610530920.72026-04-21CN122358274A2026-07-10朱红波、杨红光、齐素杰8一种消除锂电铜箔亮斑及烧焦印的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610505334.72026-04-16CN122214998A2026-06-16聂涛、徐斐、杨帅国、幸涛涛9一种可剥离埋阻铜箔及其电阻层的转移方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610489880.62026-04-14CN122314554A2026-06-30涂彬斌、吕吉庆、吴松、佟硕、杨红光、张杰10一种电解生箔机在线酸雾回收装置发明专利公布CN202610486913.12026-04-14CN122377833A2026-07-14姜安坤、胡杰、龚凯凯11一种用于测试Core板与PP树脂层间结合力的方法发明专利公布CN202610450642.42026-04-08CN122409487A2026-07-17陈威端、肖洋12一种电解铜箔用添加剂、电解液及电解铜箔的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610400965.22026-03-30CN122147463A2026-06-05谢明龙、朱红波、杨红光13一种电沉积铜箔用复合载体、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610398775.12026-03-30CN122257061A2026-06-23吴坤、佟硕、孙文强、王贤良、金荣涛、罗佳14一种HVLP铜箔及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610400959.72026-03-30CN122257062A2026-06-23易昌鸿、孙文强、吴坤、王贤良、金荣涛15复合铜箔及其制备方法、应用、覆铜板、印制电路板发明专利实质审查的生效、公布CN202610403734.72026-03-30CN122323619A2026-07-03吴坤、易昌鸿、肖頔、佟硕、孙文强、金荣涛16一种生箔机的自动穿箔装置发明专利公布CN202610389310.X2026-03-27CN122344761A2026-07-07孙大优、胡杰、龚凯凯17一种铜箔自动检测抗拉强度延伸率装置及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610334666.32026-03-18CN122192913A2026-06-12杨星、冯晓彤、潘恒仕、蔡锦开、范远朋18电解铜箔及其制备方法、覆铜板和印刷线路板发明专利实质审查的生效、公布CN202610325510.92026-03-17CN122291141A2026-06-26齐素杰、邹日、宋云兴、杨红光19多孔复合铜箔及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610326761.92026-03-17CN122303985A2026-06-30易昌鸿、吴坤、孙文强、吴莹、金荣涛20一种箔材脆性检测的制样装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610318230.52026-03-16CN121917311A2026-04-24陈赵、葛洪鑫、冯晓彤、潘恒仕、石帅、范远朋21一种载体铜箔及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610318225.42026-03-16CN122039171A2026-05-15易昌鸿、吴坤、孙文强、崔金栋、金荣涛22一种改善锂离子二次电池用负极集流体铜箔边部翘边的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610302126.72026-03-12CN122147462A2026-06-05董朝龙、杨帅国、杜龙平、余展翅23一种应用于HDI的9μm电解铜箔制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610294293.12026-03-11CN122105543A2026-05-29冯传巍、刘任进、周刚、薛玉妮、柳志齐、叶超、龚凯凯24一种工业车辆集群智能充电管理方法及系统发明专利公布CN202610295554.12026-03-11CN122354281A2026-07-10段斌、周宇25一种具有超低损耗免棕化的铜箔制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610280871.62026-03-09CN122214994A2026-06-16佟硕、梁耀华、陈亚琴、袁楚平、陶子成、杨红光26一种双面粗糙铜箔制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610280872.02026-03-09CN122214995A2026-06-16佟硕、梁耀华、陈翔浩、李州冠威、燕俊、杨红光27铜基座及其制备方法、半导体器件发明专利实质审查的生效、公布CN202610270724.02026-03-06CN122206274A2026-06-12邵广俊、汪聪、熊宏旭、吴帮正、赵一丹、吕吉庆、杨红光28一种提高反转铜箔耐热性的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610260368.42026-03-04CN122105557A2026-05-29冯传巍、刘任进、周刚、薛玉妮、叶超29一种快速定性评估电解铜箔电解液添加剂的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610225542.12026-02-25CN122218048A2026-06-16冯传巍、刘任进、周刚、薛玉妮、柳志齐、叶超30一种高抗拉阵列式微孔铜箔及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610215989.02026-02-14CN121931575A2026-04-28方明、宫鑫、楚常顺、杨韬、朱栎滔、占俊雄、朱小龙、江泱、罗佳31一种多孔铜箔制备用绝缘材料及其制备方法、多孔铜箔的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610215990.32026-02-14CN122080564A2026-05-26方明、杨韬、宫鑫、占俊雄、朱栎滔、楚常顺、江泱、罗佳32一种用于制备高抗拉微孔铜箔的电解液及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610215987.12026-02-14CN122082056A2026-05-26宫鑫、方明、杨韬、朱栎滔、占俊雄、江泱、罗佳33一种柔性电路板用超细晶电解铜箔的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610210365.X2026-02-13CN122039169A2026-05-15朱红波、杨红光、齐素杰34一种提升载体铜箔用添加剂测试精度的循环伏安测试方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610192116.22026-02-10CN122130801A2026-06-02吴帮正、汪聪、邵广俊、熊宏旭、赵一丹、张杰、杨红光35插入损耗测试结构发明专利实质审查的生效、公布CN202610181989.32026-02-09CN122109637A2026-05-29王泥铭、杨红光36一种电解铜箔的制备方法和电解铜箔发明专利实质审查的生效、公布CN202610175067.12026-02-06CN121853098A2026-04-14陶子成、梁耀华、杨红光37一种载体铜箔及其制备方法、应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610165155.32026-02-05CN121915466A2026-04-24易昌鸿、吴坤、孙文强、吴莹、金荣涛38微孔铜箔及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610142594.22026-02-02CN121874868A2026-04-17易昌鸿、吴坤、罗佳、孙文强、吴莹、金荣涛39一种基于电流预测的电解铜箔铜浓度控制方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610146857.72026-02-02CN122039168A2026-05-15徐自鹏、邹杨治、代大顺、郭钦章40一种自清洗式高效溶铜罐及使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610127863.82026-01-29CN121846941A2026-04-14柯贤锋、王鹏、段斌、赖晓康、刘海锋41镍箔及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202610095252.X2026-01-23CN121951637A2026-05-01黎紫霖、李佳璠、葛洪鑫、江泱42一种高效溶铜罐的空气热交换系统及使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610069278.72026-01-19CN121977377A2026-05-05柯贤锋、刘海锋、王鹏、段斌、赖晓康43铜箔及其制备方法、集流体、负极极片和二次电池发明专利实质审查的生效、公布CN202610060708.92026-01-16CN121938920A2026-04-28吴坤、梅平平、佟硕、金荣涛44一种电解铜箔电镀液添加剂浓度测定方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610037209.82026-01-13CN121721123A2026-03-24聂涛、杨帅国45一种微孔铜箔刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610042098.X2026-01-13CN121976279A2026-05-05楚常顺、马香、杨韬、江泱46一种电解生箔机导电结构及降低铜箔翘曲的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610038847.12026-01-13CN122013264A2026-05-12聂涛、徐斐、杨帅国、幸涛涛47一种铜箔同步粗糙化与亲锂化处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610028979.62026-01-09CN121976147A2026-05-05梁耀华、袁楚平、陈亚琴、杨红光48一种电解铜箔波浪纹异常消除装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610012148.X2026-01-06CN121853097A2026-04-14杨宝金、秦云、余敏、席懂斌、陈如意、柳江、李思贤49一种镍箔及其制备方法、以及二次电池发明专利实质审查的生效、公布CN202511978917.32025-12-25CN121726420A2026-03-24李佳璠、黎紫霖、葛洪鑫、江泱50电解铜箔生产废渣的回收利用方法及其设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511979028.92025-12-25CN121737450A2026-03-27李小林、王德用、张雷、钟鸿杰、黄贵平
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