国家知识产权局信息显示，嘉际环控（西安）科技有限公司申请一项名为“一种用于PECVD设备的喷淋头及PECVD设备”的专利，公开号CN122446153A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本申请公开了一种用于PECVD设备的喷淋头及PECVD设备，属于半导体薄膜沉积技术领域。其包括：依次层叠设置的顶层、中间层和底层，中间层的外形尺寸小于顶层及底层；凹凸配合结构，其设置于顶层与中间层之间相对的表面，凹凸配合结构的表面镀有镍基防护膜层，中间层通过凹凸配合结构与顶层配合连接；弹簧屏蔽垫圈，其设置于顶层与底层之间，且分别与顶层及底层接触导通，以使顶层与底层之间实现接地导通。本申请通过顶层与中间层之间的凹凸配合结构以及镍基防护膜层，有效防止工艺粉尘附着从而腐蚀喷淋头基体，提高了密封性能，并通过设置弹簧屏蔽垫圈，建立了顶层与底层之间的射频接地导通路径，抑制了层间缝隙可能产生的异常辉光放电。

天眼查资料显示，嘉际环控（西安）科技有限公司，成立于2021年，位于西安市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1098.222061万人民币。通过天眼查大数据分析，嘉际环控（西安）科技有限公司共对外投资了4家企业，财产线索方面有商标信息4条，专利信息52条，此外企业还拥有行政许可6个。

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作者：情报员