国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于具有降低的相干和散斑对比度的套刻量测的系统和方法”的专利，公开号CN122459745A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，无限脉冲响应滤波器包括至少一个N×N多模光学耦合器和一个或多个模式加扰环路。至少一个N×N多模光学耦合器具有N个输入端口和N个输出端口。N个输入端口之一耦合到生成光束的激光源。至少一个N×N多模光学耦合器将光束分成跨N个输出端口在幅度域中划分的多个子束。N个输出端口之一耦合到检测系统。一个或多个模式加扰环路包括模式加扰器，并将N个输出端口之一耦合到N个输入端口之一。一个或多个模式加扰环路产生降低光束的峰值功率和散斑对比度的时间非相干和空间非相干。

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作者：情报员