最近半导体圈和学术界是正在上演一幕充满戏剧性反差的景象了。
一边是西方舆论还在不断念叨，要依靠高端光刻机把中国的高端芯片锁死在7nm制程之外，但是另一边国内的科研团队已经在另一条技术路线上取得了亮眼的突破。
在这之前整个行业内已经形成了一个根深蒂固的共识：想要造出7nm以下的先进制程芯片，ASML的EUV光刻机是唯一可行的路径，并且不少人一提到打造高端芯片，第一反应就是我们没有EUV，就肯定做不出来。
这次中科院上海光机所的团队实现了100TB以上的单盘光存储容量，背后用到的核心技术就是突破阿贝极限的超分辨技术，而这项技术早在2014年的时候就凭借相关研究获得了诺贝尔化学奖的认可，如今是正在光刻领域展现出全新的潜力。
很多人都是被“必须有EUV才能做出高端芯片”的说法给误导了，但是造芯片的核心要求是实现纳米级的加工精度，从来没有规定必须用哪一种技术路线，整个行业被ASML垄断多年，大家潜移默化就默认了EUV是唯一标准答案，并且很少去思考有没有更适合的新路线。
很少有人会注意到这样一个细节，ASML的EUV光刻机电能转换效率只有2%到3%，在生产过程中大部分电能都被浪费掉了，单台设备售价超过一亿美元，因此把整个行业的成本抬到了难以承受的高度，而哪怕是行业巨头，往下推进下一代技术也越来越吃力。
这次技术突破的象征意义是远大于当下的实际应用，并且它证明了绕开EUV的技术路线完全走得通，打破了行业对单一技术路径的迷信，但是未来超分辨光刻想要实现大规模工业化量产，还要解决良率提升、成本控制等多个难题，不可能一蹴而就，需要一步步打磨。
在这之前大家被“唯一路线”的固定思维困住了很久，这次突破让整个行业打开了新思路，而不止半导体行业，很多领域都存在这样的认知误区，大家都挤在热门赛道上争抢，并且很少有人愿意探索看起来冷门的新方向，最后整个行业的创新都被限制住了。
有高赞网友留下评论说：“西方砌收费站锁门？结果中国队开飞机绕过去了哈哈，中国量子光刻破局绝了！西方封锁要傻眼了~”我觉得这话虽然是带了一些情绪，但是确实点破了当前的变化，封锁逼出来的新路线，反而可能走出不一样的天地。
我们不能因为有了技术突破就盲目自大，觉得马上就能全面替代，但是也没必要因为工业化还没完成就妄自菲薄，否定整个路线的价值，技术发展本来就是一个螺旋上升的过程，先有方向上的突破，再一步步解决工程问题，最后才能实现产业化。
这件事给普通人带来的最大启发其实是，遇到被别人封死的路口的时候，别忙着认输，换个方向说不定就能开辟出一条全新的道路，而这种不按常理出牌的创新，往往能带来意想不到的惊喜。你是否也被「无EUV就造不出高端芯片」的说法误导过？不妨留下你的看法一起讨论。
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