国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种用于化学机械抛光的修整装置和修整方法”的专利，公开号CN122463047A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本申请公开了一种用于化学机械抛光的修整装置和修整方法，属于半导体制造技术领域。该修整装置包括固定座、摆臂和修整器，所述修整器设置于摆臂的端部并绕固定座摆动；所述修整器包括修整头和用于抛光垫形貌检测的传感器；所述传感器配置有清洗组件，其包括：升降板，用于安装传感器护罩并带动其沿竖向反复升降；清洗保湿器，固定设置于升降板下方，其底部设有向上喷淋的底部喷嘴，其内侧壁设有上下两层倾斜喷淋孔，其中上层喷淋孔的轴线向上倾斜以清洗传感器护罩的侧壁上部，下层喷淋孔的轴线向下倾斜以清洗传感器护罩的侧壁下部；衬套，罩设于传感器护罩外部，衬套上设有多个通气孔，压缩空气经所述通气孔流出后形成向下倾斜的环形风带。

天眼查资料显示，华海清科股份有限公司，成立于2013年，位于天津市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本35365.1991万人民币。通过天眼查大数据分析，华海清科股份有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目297次，财产线索方面有商标信息68条，专利信息832条，此外企业还拥有行政许可36个。

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作者：情报员