应用材料申请电子处理系统校准专利,提高校准对象对准精度
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国家知识产权局信息显示,应用材料公司申请一项名为“电子处理系统的校准”的专利,公开号CN122476868A,申请日期为2021年3月。
专利摘要显示,通过第一机械臂将校准对象以目标定向放置在电子处理设备的第一站中,并且接着通过第一机械臂从所述站检取。使用第一机械臂、第二机械臂和/或装载锁定将校准对象传送至对准器站,其中校准对象具有对准器站处的第一定向。确定对准器站处的第一定向。基于第一定向确定特征误差值。对准器站使用特征误差值来对准将放置在第一站中的对象。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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