国家知识产权局信息显示,本源科仪(成都)科技有限公司申请一项名为“电路版图信号走线的局部避障方法、装置、介质及设备”的专利,公开号CN122491195A,申请日期为2025年1月。
专利摘要显示,本发明公开了一种电路版图信号走线的局部避障方法、装置、介质及设备。该局部避障方法包括:获取电路版图中的当前信号走线以及作为障碍物的目标图形;构建目标图形的最小外接凸多边形,并对最小外接凸多边形进行等距放大形成障碍图形;在当前信号走线穿过障碍图形时,获取当前信号走线与障碍图形的两个交点,并删除当前信号走线在两个交点之间的部分;选择障碍图形上被两个交点分割的两段轮廓线之一与当前信号走线的剩余部分连接为一体,形成避障走线。本发明能够实现信号走线的局部自动避障,提高版图布线效率,避障后的走线相比于避障前只有局部发生改变,因此可以维持电路版图整体的走线布局。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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