国家知识产权局信息显示，浙江盛和精瓷新材料科技有限公司申请一项名为“一种低收缩高致密SiC陶瓷素坯MEX复合增材及原位预增密制备方法”的专利，公开号CN122482819A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明公开了一种低收缩高致密SiC陶瓷素坯MEX复合增材及原位预增密制备方法，属于SiC陶瓷增材制造领域。针对现有MEX成型粘结剂含量高、素坯收缩大、依赖多次PIP浸渍、周期长的问题，本发明采用水溶性粘结剂与聚碳硅烷PCS前驱体复配，MEX打印后真空原位低温裂解，PCS转化为纳米SiC填充孔隙，实现预增密；经脱脂与无压烧结获得低收缩高致密构件。本发明素坯线性收缩率≤6%，烧结抗弯强度≥450MPa，省去多次PIP，周期缩短50%以上，适用于大尺寸异形SiC陶瓷构件低成本量产。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员