国家知识产权局信息显示，上海丰正创展半导体有限公司申请一项名为“一种应用于PFC电路的电压抑制二极管”的专利，公开号CN122534887A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本申请公开了一种应用于PFC电路的电压抑制二极管。该应用于PFC电路的电压抑制二极管包括：作为器件基底的N型外延层，设置于N型外延层上表面内的竖向P型块与横向P型块，间隔设置于N型外延层下表面内的P+型块，设置于部分横向P型块上表面外的氧化层，设置于氧化层下方且位于N型外延层内的N+型块，上金属层，以及下金属层。本申请能够实现将纵向电场重塑为均匀分布的平坦矩形电场，降低正向导通压降，增强瞬态浪涌能量吸收和散逸能力，平滑消除电场尖峰并抑制高频电磁干扰振荡。

天眼查资料显示，上海丰正创展半导体有限公司，成立于2024年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海丰正创展半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目2次，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可1个。

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作者：情报员