国家知识产权局信息显示，常州纵慧芯光半导体科技有限公司申请一项名为“MOCVD设备的复机方法及外延结构的制备方法”的专利，公开号CN122543158A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本申请涉及一种MOCVD设备的复机方法及外延结构的制备方法，包括如下步骤：提供一反应室；于反应室内壁形成处理涂层，其中，处理涂层包括依次层叠的第一生长环境涂层、粘接涂层及第二生长环境涂层，第一生长环境涂层与第二生长环境涂层均与预设外延结构中的膜层为相同主族元素化合物，粘接涂层用于粘接第一生长环境涂层及第二生长环境涂层；提供一衬底，将衬底放入反应室内；于衬底上表面生长检测层，检测层也与预设外延结构中的膜层为相同主族元素化合物；对检测层进行良率检测。本申请的复机方法，延长了反应室中配件的使用寿命，降低了复机频次，提高了反应室中生长的外延结构的膜层质量及生长效率。

天眼查资料显示，常州纵慧芯光半导体科技有限公司，成立于2015年，位于常州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3167.2433万人民币。通过天眼查大数据分析，常州纵慧芯光半导体科技有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目118次，财产线索方面有商标信息31条，专利信息249条，此外企业还拥有行政许可30个。

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作者：情报员