国家知识产权局信息显示，苏州光舵微纳科技股份有限公司申请一项名为“一种改善压印残留层一致性的工艺方法”的专利，公开号CN122546555A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明公开了一种改善压印残留层一致性的工艺方法，针对母版不同区域微结构密度或深度差异导致残留层厚度不均的问题，本发明提出：提供表面具有至少两个图形区域的母版，针对每个图形区域分别制备具有局部遮光功能的复合模具；在产品基底上涂布压印胶，使用与第一图形区域对应的第一复合模具进行对准、压印并固化，去除残留胶后重复上述步骤，依次使用对应后续图形区域的复合模具进行多次压印，且每次压印前根据对应图形区域的微结构密度和深度独立调整压印胶厚度。本发明通过分区局部遮光模具结合多次独立控胶压印，能够将不同区域的残留层厚度均控制在预定范围内，显著提高残留层一致性，工艺简单可靠。

天眼查资料显示，苏州光舵微纳科技股份有限公司，成立于2011年，位于苏州市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1847.2735万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州光舵微纳科技股份有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目17次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息93条，此外企业还拥有行政许可8个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员