国家知识产权局信息显示,长江存储科技有限责任公司申请一项名为“具有垂直晶体管的存储器器件及其形成方法”的专利,公开号CN122579611A,申请日期为2021年9月。
专利摘要显示,在某些方面中,一种存储器器件包括:半导体层,包括与半导体层接触的外围晶体管的外围电路,设置在半导体层和外围电路旁边的存储器单元阵列,以及耦合到存储器单元的位线。存储器单元中的每一个存储器单元包括在第一方向上延伸的垂直晶体管,以及耦合到垂直晶体管的存储单元。位线中的每条位线在垂直于第一方向的第二方向上延伸。位线中的相应一条位线和相应存储单元在第一方向上耦合到存储器单元中的每一个存储器单元的相对端部。
天眼查资料显示,长江存储科技有限责任公司,成立于2016年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本12469608.0404万人民币。通过天眼查大数据分析,长江存储科技有限责任公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目1467次,财产线索方面有商标信息1027条,专利信息6200条,此外企业还拥有行政许可1009个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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