国家知识产权局信息显示，戴弗根特技术有限公司申请一项名为“用于复杂AM物体的电解抛光工艺”的专利，公开号CN122603025A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，公开了一种用于对复杂增材制造（AM）物体进行电解抛光的方法。该方法包括用第一材料涂覆增材制造（AM）结构的表面。该方法还包括通过在第一材料的顶部上用第二材料涂覆所述表面来形成用于在原位对AM结构进行抛光的工具。该方法进一步包括在工具和AM结构的涂覆有第一材料的表面之间确保间隙，其中，该间隙基于第一材料的流动特性。该方法最后包括从AM结构移除第一材料。以这种方式，对拓扑优化的AM物体的复杂内部通路的精加工可以对所有内部通道进行完全涂覆。

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作者：情报员