国家知识产权局信息显示，同方工业有限公司申请一项名为“一种激光清洗头及激光清洗装置”的专利，公开号CN122583299A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本公开提供了一种激光清洗头及激光清洗装置，其中，该激光清洗头包括：壳体，具有第一壳壁和第二壳壁，壳体的内部形成有气腔，第一壳壁开设有进气口，第二壳壁开设有出气口和出光口，进气口通过气腔连通出气口；聚焦透镜，设置于壳体且覆盖出光口；动力部，设置于气腔内，动力部用于驱动气腔内的气体向出气口流动；过滤件，设置于壳体且覆盖进气口，过滤件用于过滤流经进气口的气流；其中，出气口的出气方向与聚焦透镜的轴向相交。

天眼查资料显示，同方工业有限公司，成立于2006年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50400万人民币。通过天眼查大数据分析，同方工业有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目551次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息53条，此外企业还拥有行政许可27个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员