国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于光平板印刷膜堆叠的响应层”的专利，公开号CN122603611A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本文描述的实施方式涉及一种用于图案化图案化堆叠的方法，所述方法包括在基板上方形成图案化堆叠，其中所述图案化堆叠包括响应层及在所述响应层上方的抗蚀剂层。在一实施方式中，利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺以低于250℃的温度沉积所述响应层。在一实施方式中，所述工艺进一步包括在所述抗蚀剂层中形成开口，以及将所述开口的图案转移到所述响应层中。在一实施方式中，所述响应层具有第一线宽粗糙度(LWR)。在一实施方式中，所述方法进一步包括使所述响应层回流以形成回流响应层，其中所述回流响应层具有小于所述第一LWR的第二LWR。

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作者：情报员