国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于基板支撑装置的磁浮系统”的专利，公开号CN122603608A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，提供了一种基板支撑装置。所述基板支撑装置包括固定到处理腔室的基底。所述基底包括经配置为产生第一磁场、第二磁场及第三磁场的定子。所述基板支撑装置进一步包括在所述基底之上用于支撑基板的基板支撑件。所述基板支撑件包括具有第一反应性区域的转子，所述第一反应性区域与所述第一磁场相互作用以控制所述基板支撑件的垂直位置，并且与所述第二磁场相互作用以使所述基板支撑件居中于所述基底。所述基板支撑件包括第二反应性区域，所述第二反应性区域与所述第三磁场相互作用以旋转所述基板支撑件。所述第一磁场及所述第一反应性区域将所述基板支撑件选择性地悬浮到静止位置之上从0 mm至6 mm的范围内的任何距离。

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作者：情报员