国家知识产权局信息显示，一道新能源科技股份有限公司申请一项名为“一种基于湍流抑制与界面优化的背接触电池LPCVD多晶硅沉积方法及BC电池、光伏系统”的专利，公开号CN122602634A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本申请提供一种基于湍流抑制与界面优化的背接触电池LPCVD多晶硅沉积方法及BC电池、光伏系统，涉及太阳能电池领域。该方法包括：在所述N型CZ硅片背面设置隧穿氧化层，并经过快速降压阶段和超致密层沉积阶段在所述燧穿氧化层表面设置超致密多晶硅过渡层；再经过主体层沉积阶段在所述超致密多晶硅过渡层表面设置主体多晶硅层。该方法在超致密层沉积阶段建立高致密过渡层，在主体层沉积阶段实现晶粒梯度生长，具有抑制湍流效应、优化界面结构、提升多晶硅层均匀性与致密性的优点。

天眼查资料显示，一道新能源科技股份有限公司，成立于2018年，位于衢州市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本119048.8842万人民币。通过天眼查大数据分析，一道新能源科技股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目649次，财产线索方面有商标信息59条，专利信息1180条，此外企业还拥有行政许可19个。

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作者：情报员