国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“形成金属硅化物膜的方法”的专利，公开号CN122622587A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，公开了用于形成金属硅化物的方法。示例性方法包括在反应室中提供衬底，执行热沉积过程以形成金属硅化物膜，以及可选地在金属硅化物上(例如直接地)形成盖层。示例性方法还可以包括执行浸泡过程。可以在不产生等离子体的情况下执行本文所述的方法。

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作者：情报员