国家知识产权局信息显示，杭州奥创光子技术有限公司申请一项名为“用于高功率激光器的波片校正方法”的专利，公开号CN122620247A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本申请涉及激光应用领域，提供了一种用于高功率激光器的波片校正方法。方法包括：使线偏振激光通过起偏镜，获得高纯度初始线偏振态；使所述线偏振激光通过增益介质前的第一四分之一波片，完成偏振预调制；使预调制后的光束通过单通激光放大器的增益介质，在增益介质中完成激光放大，并抑制热退偏效应；使放大后的光束通过增益介质后的第二四分之一波片，将光束偏振态恢复为线偏振光；使恢复后的线偏振光通过检偏镜，输出高质量线偏振激光；迭代校准两个四分之一波片的角度：先精细旋转第一四分之一波片，同步调节第二四分之一波片，往复调整直至输出激光的光束质量与输出功率同时达到最佳状态。

天眼查资料显示，杭州奥创光子技术有限公司，成立于2018年，位于杭州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本4542.7691万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州奥创光子技术有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目101次，财产线索方面有商标信息26条，专利信息177条，此外企业还拥有行政许可4个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员