国家知识产权局信息显示,沪士电子股份有限公司申请一项名为“一种改善局部残铜率的PCB制作方法及PCB”的专利,公开号CN122622116A,申请日期为2026年6月。
专利摘要显示,本发明公开了一种改善局部残铜率的PCB制作方法及PCB,涉及PCB板制作技术领域,所述方法包括:在基板A两面叠合半固化片和载体铜箔,压合成基板B并制作镭射孔;对镭射孔和基板B表面进行金属化处理形成导电层,在导电层上压覆一次抗电镀干膜;在一次抗电镀干膜上制作一次精细线路图形窗口;在一次抗电镀干膜表面和一次精细线路图形窗口内壁溅射铜层,形成导电薄膜,在导电薄膜上压覆二次抗电镀干膜;在二次抗电镀干膜上制作二次精细线路图形窗口;在导电薄膜表面进行图形电镀、去除多余部分形成所需的精细线路图形。本发明通过两次压覆抗电镀干膜,在保证局部残铜率分布均匀的同时使干膜表面形成连续导电层,最终实现整板的均匀电镀。
天眼查资料显示,沪士电子股份有限公司,成立于1992年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本192436.3537万人民币。通过天眼查大数据分析,沪士电子股份有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目352次,财产线索方面有商标信息7条,专利信息236条,此外企业还拥有行政许可76个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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