国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“光刻工艺控制方法及半导体加工设备”的专利，公开号CN122613660A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明提供一种光刻工艺控制方法及半导体加工设备，所述半导体加工设备用于执行光刻工艺控制方法，并包括涂胶显影机台和处理装置，所述光刻工艺控制方法包括：为涂胶显影机台设置单独的检测腔室，在检测腔室内设有样品台和拍照装置；为基底进入检测腔室设定预设条件；根据预设条件，控制基底经对应的光刻工序前和/或光刻工序后进入检测腔室；在检测腔室内，基底放置于样品台上，并将液滴涂覆于样品台上所承载的基底的表面；经拍照装置获取液滴在基底表面的图像，并传输至处理装置；处理装置根据液滴在基底表面的图像，获取液滴在基底表面的接触角，并以基底表面的接触角判断基底表面的状态。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2103次，专利信息2899条，此外企业还拥有行政许可550个。

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作者：情报员