国家知识产权局信息显示,东莞新科技术研究开发有限公司申请一项名为“半导体晶圆的处理方法”的专利,公开号CN122626367A,申请日期为2025年2月。

专利摘要显示,本发明半导体晶圆的处理方法包括:使用UV胶对半导体晶圆的正背面进行粘贴,在所述半导体晶圆的背面形成第一掩膜,在所述半导体晶圆的正面形成第二掩膜;将所述半导体晶圆的背面粘接在机台上进行机械切割,由所述第一掩膜切割至所述第二掩膜;以及采用激光对所述半导体晶圆的切割面进行修整。本发明通过UV胶掩膜保护和激光修整工艺,显著降低晶圆切割过程中的崩边率,提高加工质量和产品良率。

天眼查资料显示,东莞新科技术研究开发有限公司,成立于2004年,位于东莞市,是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1050万美元。通过天眼查大数据分析,东莞新科技术研究开发有限公司参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息751条,此外企业还拥有行政许可43个。

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作者:情报员