国家知识产权局信息显示,甬矽半导体(宁波)有限公司申请一项名为“5D微凸块封装结构及其制备方法”的专利,公开号CN122662715A,申请日期为2026年7月。
专利摘要显示,本发明提供了一种2.5D微凸块封装结构及其制备方法,涉及芯片封装领域,该2.5D微凸块封装结构,包括基材、基底布线组合层、导电基底层、导电凸块、第一金属件、第二金属件、止挡导电层和焊帽层,在导电凸块的周围错位设置第一金属件和第二金属件。其中第一金属件和第二金属件均位于止挡导电层和导电基底层之间,第一金属件与止挡导电层间隔设置,第二金属件的一端连接至止挡导电层,另一端朝向基材凸起,并与导电基底层间隔设置。相较于现有技术,本发明通过设计第一金属件和第二金属件,可以提升散热面积,进而提升整体凸块结构的散热性能。并且在焊接过程中,能够提升焊料的焊接面积,进而提升焊接强度,减缓焊接结构开裂或断裂现象。
天眼查资料显示,甬矽半导体(宁波)有限公司,成立于2021年,位于宁波市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本400000万人民币。通过天眼查大数据分析,甬矽半导体(宁波)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目33次,专利信息290条,此外企业还拥有行政许可20个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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