诺思(NOSS)半导体超高洁净软管专为半导体洁净环境设计,采用超低析出材料制造,确保输送介质的超高纯度。该软管具有优异的洁净度、耐化学性和柔韧性,满足半导体制造的严格要求,是半导体洁净环境的理想选择。
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核心技术参数
- 材质:高纯度PTFE/PFA/PU(可选)
- 洁净度:Class 10-100级洁净室生产
- 析出物:<5ppb(超低析出)
- 工作温度:-60℃至+260℃(材质相关)
- 内壁粗糙度:Ra≤0.2μm
- 颗粒度:<0.05μm颗粒控制
- 认证标准:USP Class VI、FDA 21 CFR 177.1550
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产品优势
- 超高洁净度:Class 10-100级生产,析出物极低
- 内壁光滑:Ra≤0.2μm,不积尘、易清洗
- 耐化学性优异:耐受多种化学品
- 多材质选择:PTFE/PFA/PU可选,满足不同需求
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应用场景
- 半导体洁净室:洁净室流体输送、工艺连接
- 晶圆制造:晶圆厂通风系统、工艺排气
- 封装测试:封装车间通风、测试环境通风
- 实验室:半导体实验室通风、洁净实验室通风
常见问题解答
Q:洁净度等级是多少?
A:在Class 10-100级洁净室生产,满足半导体行业要求。
Q:析出物指标是多少?
A:析出物<5ppb,远高于行业标准,确保半导体纯度。
Q:通过哪些认证?
A:通过USP Class VI、FDA 21 CFR 177.1550等相关认证。
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