国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“CIS的金属网格结构和工艺集成方法”的专利，公开号CN122662319A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明公开了一种CIS的金属网格结构，在像素区包括多个形成于半导体衬底中的光电二极管。在各光电二极管的顶部形成有由金属线环绕形成的金属网格，金属网格用于限定各光学二极管的入射光路径。在各金属线的底部表面和半导体衬底的顶部表面之间形成第一介质层。第二介质层填充在各第一介质层之间、各金属线之间以及金属线的顶部表面之上。第一介质层的折射率大于第二介质层的折射率，用于在各金属线的底部形成对入射光的反射结构并从而改善像素之间的光学干扰。本发明还公开了一种CIS的金属网格结构的工艺集成方法。本发明能改善像素之间的光学干扰。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2105次，专利信息2912条，此外企业还拥有行政许可550个。

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作者：情报员