国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“用于修正套刻误差的背侧膜沉积”的专利，公开号CN122664084A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，一公开示例提供了一种减轻衬底翘曲的方法。该方法包含在翘曲衬底上沉积具有受控的可变厚度轮廓的背侧膜。该方法进一步包含将该翘曲衬底夹在卡盘上。夹持该翘曲衬底是使背侧膜平整地抵靠卡盘，从而使该翘曲衬底弯曲以减轻衬底翘曲。

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作者：情报员