国家知识产权局信息显示，常州捷佳创精密机械有限公司申请一项名为“硅片掩膜处理方法及低温剥离装置”的专利，公开号CN122662650A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明公开了硅片掩膜处理方法及低温剥离装置，硅片掩膜处理方法包括以下步骤：将承载有掩膜层的硅片置于低温环境中，使掩膜层脆化并从硅片表面剥离；收集被剥离的掩膜材料，并对收集到的掩膜材料进行再生处理。本发明采用低温环境使掩膜层脆化并与硅片分层剥离，再对剥离出来的掩膜材料进行收集与再生处理，实现无污染、低损伤剥离的同时，完成了掩膜材料的重复利用，显著降低了生产成本。

天眼查资料显示，常州捷佳创精密机械有限公司，成立于2008年，位于常州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本50058.56万人民币。通过天眼查大数据分析，常州捷佳创精密机械有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目103次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息785条，此外企业还拥有行政许可29个。

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作者：情报员