国家知识产权局信息显示，复旦大学义乌研究院;江苏迈纳德微纳技术有限公司申请一项名为“原子层刻蚀设备及前驱体输运与管路清洗方法”的专利，公开号CN122679836A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本发明涉及原子层刻蚀设备技术领域，具体涉及一种原子层刻蚀设备及前驱体输运与管路清洗方法。该设备包括反应腔室、至少一路前驱体传输系统、压力缓冲装置和温控补偿装置。压力缓冲装置设置于前驱体源瓶出口下游并位于质量流量控制器上游，其内部流道包括沿前驱体流动方向依次连通的渐扩缓冲段、稳流段和渐缩输出段，以缓冲前驱体脉冲输运过程中的压力波动。温控补偿装置设置于压力缓冲装置及其下游相邻前驱体传输管路外周，用于使相应壁温不低于前驱体凝结温度。所述方法包括前驱体输运、压力缓冲、抽真空、惰性气体吹扫和再抽真空，可降低压力冲击、局部温度波动、冷凝沉积和管路残留风险，提高刻蚀工艺的稳定性和重复性。

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作者：情报员