国家知识产权局信息显示,上海贺东电子材料有限公司申请一项名为“显影液涂布系统及涂布方法”的专利,公开号CN122672274A,申请日期为2026年5月。
专利摘要显示,本公开涉及半导体集成电路制造中的涂胶显影设备领域,特别是一种显影液涂布系统及涂布方法,所述涂布系统包括用于支撑晶圆的支撑组件和扫描式显影液喷嘴,显影液喷嘴包括喷嘴本体,喷嘴本体上部连接有显影液进管,喷嘴本体内设有储液腔,显影液进管与储液腔连通,储液腔内设有分流件,分流件的上表面呈梯度设置,其中部高度低于两侧高度,分流件下端连接有喷头。本公开的显影液涂布系统,采用液帘长度可控的扫描式显影液喷嘴,其液帘长度可根据晶圆位置做出适应性变化,在喷吐过程中适时调整液帘的长短,进而减少每片晶圆显影所需的显影液量,避免显影液的浪费,从而降低生产成本。
天眼查资料显示,上海贺东电子材料有限公司,成立于2021年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11240万人民币。通过天眼查大数据分析,上海贺东电子材料有限公司参与招投标项目1次,专利信息43条,此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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