国家知识产权局信息显示,泉芯半导体科技(无锡)有限公司取得一项名为“一种氮气加热装置及晶圆处理设备”的专利,授权公告号CN224719135U,申请日期为2025年10月。

专利摘要显示,本实用新型公开一种氮气加热装置晶圆处理设备,氮气加热装置包括安装板和氮气加热器,安装板可拆装地安装在晶圆处理设备的机箱的顶部;氮气加热器包括加热壳体和若干个加热部件,加热壳体可拆装地安装在安装板上,加热壳体内设置有加热腔,加热壳体上设置有进气口和出气口,加热腔的第一端与进气口相连通,加热腔的第二端与出气口相连通,进气口与外部待加热的氮气气源相连通,待加热的氮气经进气口、加热腔后从出气口排出;若干个加热部件设置在加热壳体上,加热部件被配置为对经过加热腔内的氮气实施加热。上述氮气加热装置通过将氮气加热器安装在晶圆处理设备机箱顶部,操作人员不易误触,提高了设备的安全性。

天眼查资料显示,泉芯半导体科技(无锡)有限公司,成立于2020年,位于无锡市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析,泉芯半导体科技(无锡)有限公司参与招投标项目4次,专利信息42条,此外企业还拥有行政许可3个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员