国家知识产权局信息显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司申请一项名为“槽体组件和基板处理装置”的专利,公开号CN122699572A,申请日期为2025年3月。
专利摘要显示,本申请揭示一种槽体组件和基板处理装置。槽体组件包括多个槽体和气密性检测装置,每个槽体包括:多个槽壁,至少部分槽壁之间具有接合处;密闭罩,罩设于至少部分接合处,以与槽壁围合成中空的腔体;气密性检测装置通过接口与腔体连接,以检测腔体是否存在密封缺陷;若腔体不存在密封缺陷,则表示腔体对应的槽体不存在漏液缺陷;气密性检测装置被配置为:响应于槽体组件中有槽体发生漏液,指示槽体组件中不存在漏液缺陷的槽体,以缩小对多个槽体进行漏液检测的范围。通过在容易发生漏液的接合处罩设密闭罩,有效降低槽体发生漏液的风险;通过检测腔体的气密性,能够快速指示出不存在漏液缺陷的槽体,为槽体的检修和维护带来便利。
天眼查资料显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司,成立于2005年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本48259.6689万人民币。通过天眼查大数据分析,盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了17家企业,参与招投标项目187次,财产线索方面有商标信息33条,专利信息752条,此外企业还拥有行政许可33个。
盛帷半导体设备(上海)有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本302234.85万人民币。通过天眼查大数据分析,盛帷半导体设备(上海)有限公司参与招投标项目10次,专利信息67条,此外企业还拥有行政许可99个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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