国家知识产权局信息显示，立坚特克股份公司申请一项名为“集成光子平台和电路以及制造方法”的专利，公开号CN122690756A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明提供了一种用于制造集成光子平台的方法，包括：提供基板；在基板上沉积由第一材料制成的下包层；在下包层上沉积由第二材料制成的光子层；以及对于光子层进行图案化以形成波导部分和蚀刻停止部分，其中波导部分形成为基本上在第二材料内部引导限定的光学模式，其中蚀刻停止部分形成为光子层的限定区域。本发明还提供了一种用于制造集成光子平台的方法，该方法包括：通过使用第二蚀刻剂蚀刻光子层上由第一材料制成的上包层的一部分，以至少部分地暴露光子层的蚀刻停止部分，从而形成腔；以及通过使用第一蚀刻剂蚀刻光子层的蚀刻停止部分的暴露部分，以暴露下包层。此外，本发明还提供了相应的集成光子平台和相应的集成光子电路。

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作者：情报员