国家知识产权局信息显示，西默有限公司申请一项名为“激光束孔径”的专利，公开号CN122719952A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，一种用于光刻系统的光源包括光学部件和孔径。光学部件包括具有第一表面和第二表面的第一侧。孔径被定位在棱镜的第一侧的第一表面上，或者被定位为与该表面邻近，并且平行于该表面。孔径包括第一部分和第二部分。孔径的第一部分阻隔光进入光学部件，并且能够朝向束流收集器反射入射束的一部分。孔径的第二部分允许束的一部分进入和离开光学部件的第一侧。

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作者：情报员