国家知识产权局信息显示，博康（嘉兴）半导体科技有限公司申请一项名为“湿法刻后等离子体-化学协同清洗方法、装置及应用”的专利，公开号CN122719374A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明提供了一种湿法刻后等离子体‑化学协同清洗方法，属于半导体蚀刻工艺技术领域，该方法由低损伤远程等离子体灰化、兆声波辅助特异性化学清洗以及低表面张力温和干燥三个核心步骤：首先利用远程等离子体产生的中性活性自由基无损剥离光刻胶变性层，避免离子轰击对GaN晶格的损伤；然后采用近中性水基清洗液，其氧化剂、络合剂、pH缓冲对与表面活性剂协同作用，并在兆声波的空化及声学流辅助下，深入亚微米级沟槽内部彻底去除残留物；最后通过异丙醇蒸气等低表面张力干燥技术，有效防止微结构因毛细力倒塌。本发明能够实现无损伤、纳米级洁净度的清洗效果，优化栅界面特性、抑制电流崩塌，并保证T型栅等精细结构的完整性与器件电学性能的一致性。另外，本发明还提供了湿法刻后等离子体‑化学协同清洗装置及应用。

天眼查资料显示，博康（嘉兴）半导体科技有限公司，成立于2022年，位于嘉兴市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，博康（嘉兴）半导体科技有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目17次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息10条，此外企业还拥有行政许可8个。

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作者：情报员