国家知识产权局信息显示，浙江珏芯微电子有限公司申请一项名为“一种客观评价碲锌镉衬底片位错密度的方法”的专利，公开号CN122709186A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明涉及微电子技术领域，具体涉及一种客观评价碲锌镉衬底片位错密度的方法，从同一碲锌镉单晶中获取(111)面、(-111)面、(1-11)面及(11-1)面的衬底片；分别对(111)面、(-111)面、(1-11)面及(11-1)面的衬底片进行化学腐蚀处理，以显现各晶面上的腐蚀坑；分别统计各晶面上的腐蚀坑密度，得到(111)面、(-111)面、(1-11)面及(11-1)面的位错密度；将位错密度相加，得到衬底片的整体位错密度，整体位错密度反映包括第一角度和第二角度在内的所有方向位错。本发明克服了碲锌镉位错腐蚀剂只能反映与腐蚀面呈小角度位错、无法表征大角度位错的问题，从而能够较完整地反映材料整体的位错密度情况，为研究碲锌镉与碲镉汞之间的位错关系提供了更准确的数据基础。

天眼查资料显示，浙江珏芯微电子有限公司，成立于2019年，位于丽水市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本35131.764706万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江珏芯微电子有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息240条，此外企业还拥有行政许可14个。

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作者：情报员