国家知识产权局信息显示，杭州泽达半导体有限公司申请一项名为“宽度渐变图形的生成方法、装置、电子设备、介质及产品”的专利，公开号CN122759028A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明涉及芯片版图设计技术领域，公开了一种宽度渐变图形的生成方法、装置、电子设备、介质及产品，包括：获取待生成的宽度渐变图形的设计参数；根据曲线类型和偏转长度，确定从起始点到终点的路径上划分的多个中心采样点的坐标；根据宽度渐变方式、第一宽度和第二宽度，确定多个中心采样点中每个中心采样点对应的瞬时宽度；对于多个中心采样点中的每个中心采样点，沿中心采样点在法线方向的两侧各偏移对应的瞬时宽度的一半，得到左边界顶点集合和右边界顶点集合；根据左边界顶点集合和右边界顶点集合，生成闭合的宽度渐变图形。本发明可以确保宽度渐变图形在切向与几何尺寸上的无缝平滑过渡，且仅输入设计参数即可自动生成复杂的宽度渐变图形。

天眼查资料显示，杭州泽达半导体有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2175.602545万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州泽达半导体有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息32条，此外企业还拥有行政许可2个。

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作者：情报员