来源：新浪证券-红岸工作室

9月16日消息，国家知识产权局信息显示，合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“基于FPGA的直写光刻图形填充方法、装置、光刻机和介质”的专利，授权公告号CN116430683B，授权公告日为2026年9月15日。申请公布号为CN116430683A，申请号为CN202310419139.9，申请公布日期为2026年9月15日，申请日期为2023年4月14日，发明人周安萌、王岩岩、邵德洋，专利代理机构北京景闻知识产权代理有限公司，专利代理师李亚洲，分类号G03F7/20、G06T11/40、G06T7/11。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于FPGA（Field‑Programmable Gate Array，即现场可编程门阵列）的直写光刻图形填充方法、装置、光刻机和介质，其中，基于FPGA的直写光刻图形填充方法，包括：获取曝光图形区域数据和图形数据；根据曝光图形区域数据将曝光图形区域划分为N个处理通道，获取N个处理通道的区域数据，其中，N≥2；根据N个处理通道的区域数据和图形数据对位于曝光图形区域中的图形进行筛选和切割处理；同时对N个处理通道中的图形进行填充。本发明实施例的基于FPGA的直写光刻图形填充方法，通过设置多个处理通道，多个处理通道能实现并行接收并处理图形的填充，提高对曝光图形的填充效率，整体缩短填充时间，提升设备产能。

芯碁微装是国内直写光刻设备领域领军企业，专注微纳直写技术研发，拥有全产业链布局优势。公司成立于2015年6月30日，于2021年4月1日登陆上海证券交易所，注册地为安徽省合肥市，办公地覆盖安徽省合肥市与香港特别行政区。

公司主营业务聚焦以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售与配套维保服务，产品覆盖PCB直接成像设备及自动线系统、泛半导体直写光刻设备及自动线系统等，功能覆盖微米到纳米级多领域光刻环节，所属申万行业为机械设备-专用设备-其他专用设备，同时布局光刻胶、光刻机、HBM概念相关赛道。

2026年上半年，芯碁微装实现营业收入11.06亿元，在93家同行业公司中排名第22位，高于行业9.03亿元的平均营收水平，较行业4.78亿元的中位数优势显著，同期行业营收前两位分别为科达制造103.92亿元、豪迈科技60.16亿元；营收结构中激光直写成像设备贡献11.02亿元，占比达99.65%，其余补充类业务收入382.92万元，占比0.35%。当期公司实现净利润2.81亿元，行业排名第7位，大幅高于行业8645.71万元的平均净利润与2266.06万元的净利润中位数，同期行业净利润前两位分别为科达制造19.73亿元、豪迈科技11.34亿元。

指标类别具体指标芯碁微装2026年上半年数值行业对比基准行业排名/总样本数营收表现营业收入11.06亿元行业均值9.03亿元、行业中位数4.78亿元，头部企业科达制造103.92亿元、豪迈科技60.16亿元22/93营收结构激光直写成像设备收入11.02亿元，占比99.65%营收结构其他补充业务收入382.92万元，占比0.35%利润表现净利润2.81亿元行业均值8645.71万元、行业中位数2266.06万元，头部企业科达制造19.73亿元、豪迈科技11.34亿元7/93

合肥芯碁微电子装备股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1搬运装置以及曝光设备发明专利公布CN202611100167.42026-07-23CN122684853A2026-09-04李冬青、焦官华、徐欣、沈古飞2直写光刻设备的高速曝光系统和方法发明专利公布CN202610898069.32026-06-22CN122690891A2026-09-04周明如3一种基于激光干涉仪闭环反馈的工件台位置误差补偿方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610613836.12026-05-07CN122467969A2026-07-28卞洪飞、李嘉杰、高天、安刚辉、孙玉涛、戴晓霖4一种直写式光刻机高阶灰度曝光控制方法、装置发明专利公布CN202610354092.62026-03-23CN122449850A2026-07-24王超、周明如、谢鹍5基于拼板的曝光台面标定方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610313547.X2026-03-16CN122110620A2026-05-29张辉、张润晨、叶加良、陈东6玻璃基板激光打标工作台发明专利实质审查的生效、公布CN202610219521.92026-02-24CN121848002A2026-04-14叶飞7直写式光刻机及扫描曝光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610146096.52026-02-02CN121900112A2026-04-21徐从浩、赵美云8一种改善PCB油墨色差的多次曝光偏移方法及介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610107704.12026-01-27CN121763669A2026-03-31孟鑫瑞、贾威强9直写式光刻机及其曝光同步诊断方法和信号同步处理单元发明专利实质审查的生效、公布CN202610093213.62026-01-23CN121763668A2026-03-31徐从浩、童诚、王振亚10一种用于印刷电路板PCB的检测方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610020506.12026-01-08CN121784849A2026-04-03章晋凡、刘鑫、沈古飞、焦官华11基于提前测距的动态追焦光学测量系统、方法及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202512001839.82025-12-29CN121741698A2026-03-27谢鹍、张润晨、石庆林12一种可折展的压紧机构及LDI设备实用新型授权CN202520797048.32025-04-24CN224005412U2026-03-17汪志全、梁旭13一种对并排印刷电路板侧边区域形成八边压紧的压紧装置及LDI设备实用新型授权CN202520797055.32025-04-24CN224319777U2026-06-02汪志全、梁旭14光学测距装置和激光直写曝光机发明专利实质审查的生效、公布CN202510416740.12025-04-03CN120293010A2025-07-11徐剑锋、穆璐、姜蔚然15激光加工装置和激光加工系统发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510309673.32025-03-17CN120095316A2025-06-06刘孟辉、赵尚州16用于无掩模板直写光刻曝光机的吸盘电势监控系统及直写光刻曝光机实用新型授权CN202520419485.12025-03-11CN224020147U2026-03-20葛星雨、朱会敏、曹桂林、卢小齐、孙文彪17吸附组件及具有其的曝光装置发明专利实质审查的生效、公布CN202510276930.82025-03-10CN119987158A2025-05-13叶飞、程刚、项宗齐、汪涛18吸附组件及具有其的曝光装置实用新型授权CN202520372061.42025-03-05CN223692643U2025-12-19于成信19LDI曝光机的对位方法和LDI曝光机发明专利授权CN202510225750.72025-02-27CN119805889B2025-11-28赵祥宝、蔡志鸿20LDI曝光机的对位方法和LDI曝光机发明专利授权CN202510224817.52025-02-27CN119805888B2026-04-10赵祥宝、郑超、朱远哲、高晓锋21一种抖动分板装置实用新型授权CN202520211748.X2025-02-11CN223792483U2026-01-13陆原、束义、刘汉云22应用于直写光刻机的纠偏对位方法及装置、介质和光刻机发明专利授权CN202510148769.62025-02-11CN119805879B2026-04-03王克、程建高23一种双台面曝光机实用新型授权CN202520171673.72025-01-25CN223796823U2026-01-13于成信24一种曝光面剂量修正系统实用新型授权CN202520171669.02025-01-25CN223796822U2026-01-13李志豪、董邦林、穆璐、宋照爱25一种插框自动收放板装置发明专利授权CN202510120189.62025-01-25CN119822052B2026-03-13焦官华、陆原、束义、刘汉云26一种插板夹持装置发明专利授权CN202510120188.12025-01-25CN119822051B2026-03-17陆原、焦官华、束义、刘汉云27运动曝光工作台、曝光系统和曝光的控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510110128.12025-01-23CN119644681A2025-03-18李辉28运动曝光工作台及具有其的曝光系统实用新型授权CN202520160598.42025-01-23CN223911162U2026-02-13李辉29基于偏转镜实现光束分束及调控的激光并行加工设备实用新型授权CN202520083435.02025-01-14CN223932816U2026-02-24刘孟辉30激光钻孔独立动态调控的多AOM级联设备实用新型授权CN202520083520.72025-01-14CN223932871U2026-02-24刘孟辉31提升UV激光钻孔加工工艺的激光钻孔设备发明专利授权CN202510057567.02025-01-14CN119794623B2026-07-17刘孟辉、赵尚州32激光二极管的散热装置、高功率半导体激光器及组装方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510016572.72025-01-06CN119994629A2025-05-13刘亮、杨凯33一种半导体空间光激光器镜片的调试工装及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510016571.22025-01-06CN120002560A2025-05-16刘亮、杨凯34激光器外壳及半导体空间光激光器实用新型授权CN202520025368.72025-01-06CN223797724U2026-01-13刘亮、金伟龙、杨凯35曝光装置实用新型授权CN202423309294.42024-12-31CN223566032U2025-11-18叶飞36应用于光头底板的散热机构及其曝光机实用新型授权CN202423314307.72024-12-31CN223712003U2025-12-23张文龙、梁旭37直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机发明专利实质审查的生效、公布CN202411904595.32024-12-23CN119556532A2025-03-04王超、梅文辉、赵美云、邵德洋38自动上下料装置实用新型授权CN202423178878.22024-12-23CN223572237U2025-11-21张亮、赵尚州、李辉、岳览39吸附总成及具有其的光刻装置发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411726109.32024-11-28CN119511647A2025-02-25侯庆伟、汪涛40提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202411720670.02024-11-28CN119292005B2025-10-10卞洪飞、张辉、叶加良、陈东41基于空间光调制的双波段激光图形化微纳制造装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411700772.62024-11-26CN119387805A2025-02-07张辉、卞洪飞、叶加良、陈东42夹取装置实用新型授权CN202422891408.42024-11-26CN223385416U2025-09-26李冬青、李香滨、焦官华、徐欣43一种真空吸附固定式晶圆载台实用新型授权CN202422718008.32024-11-06CN223598699U2025-11-25于成信44夹紧总成及具有其的光刻装置实用新型授权CN202422674996.62024-11-04CN223666547U2025-12-12王历先、梁旭、张文龙45一种能够快速更换过滤器的风机过滤装置实用新型授权CN202422675578.92024-11-01CN223425389U2025-10-10程强46曝光总成及具有其的光刻设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411543995.62024-10-31CN119126500A2024-12-13张浩为、刘孟辉、武林47一种用于LDI设备的气动遮光装置实用新型授权CN202422670377.X2024-10-31CN223401139U2025-09-30张文龙48一种用于DMD芯片散热的水冷系统实用新型授权CN202422670371.22024-10-31CN223598092U2025-11-25张文龙、梁旭、王历先49单台面LDI曝光机外观专利授权CN202430676628.82024-10-25CN309380230S2025-07-11王历先、项宗齐、梁旭50FPD边缘曝光打码设备外观专利授权CN202430676627.32024-10-25CN309385911S2025-07-15程强