国家知识产权局信息显示，武汉京东方光电科技有限公司、京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜晶体管及其制备方法、显示基板”的专利，公开号CN122784145A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本申请提供一种薄膜晶体管及其制备方法、显示基板，属于薄膜晶体管技术领域。薄膜晶体管，包括：基底；栅极，位于所述基底上；栅绝缘层，覆盖所述栅极；有源层，位于所述栅绝缘层背离所述基底的一侧，所述有源层延伸至所述栅极的边缘的外侧；源漏极，位于所述有源层背离所述基底的一侧，且与所述有源层延伸至所述栅极的边缘外侧的部分接触；导电屏蔽层，嵌入于所述栅绝缘层内部，所述有源层延伸至所述栅极的边缘外侧的部分在所述基底上的正投影位于所述导电屏蔽层在所述基底上的正投影内；其中，所述导电屏蔽层电连接至固定电位。本申请能够降低漏电流、消除寄生电容干扰并提升制造良率。

天眼查资料显示，武汉京东方光电科技有限公司，成立于2017年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2100000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉京东方光电科技有限公司参与招投标项目497次，专利信息308条，此外企业还拥有行政许可522个。

京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3704432.8064万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业，参与招投标项目363次，财产线索方面有商标信息790条，专利信息69089条，此外企业还拥有行政许可48个。

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作者：情报员