国家知识产权局信息显示，武汉正可科技有限公司取得一项名为“一种高精度光学玻璃抛光的磨头结构”的专利，授权公告号CN224765017U，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本实用新型属于抛光设备技术领域，具体的说是一种高精度光学玻璃抛光的磨头结构，包括电机，所述电机输出端连接有轴杆，所述轴杆上安装有平面轮，所述平面轮侧壁设有固定盘，所述固定盘侧壁安装有凹槽轮，所述平面轮、固定盘、凹槽轮上设有连接组件，所述轴杆上设有固定组件，所述轴杆上设有稳定组件，所述轴杆端部设有加固组件，所述固定组件包括挡圈，所述挡圈固接在轴杆上，所述挡圈侧壁固接有一对固定框，所述固定框内滑动连接有插板，所述插板侧壁固接有拨板，通过上述结构，设置平面轮与凹槽轮两种类型的抛光轮，可便于对光学玻璃的平面以及边缘打磨，以提高在对光学镜片抛光时的便捷性与稳定性。

天眼查资料显示，武汉正可科技有限公司，成立于2009年，位于武汉市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉正可科技有限公司共对外投资了1家企业，专利信息24条，此外企业还拥有行政许可4个。

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作者：情报员