国家知识产权局信息显示，致茂电子股份有限公司申请一项名为“用于多通道并行设备测试的系统和方法”的专利，公开号CN122776019A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本公开描述用于半导体器件的参数多通道测试的系统和方法。系统提供多个测试通道，其包括脉冲资源和测量资源，测量资源具有耦合到与测试引脚连接的电势节点的高电流(HC)和低电流(LC)开关。脉冲资源包括第一支路，其具有脉冲发生器、可编程增益放大器、用于提供脉冲电流/电压监测的不同支路或操作的开关和高速开关。可结合模式开关以选择性将电势节点连接到脉冲资源以进行脉冲测试，在HC开关闭合情况下连接到测量资源以进行高电位测试，或在LC开关闭合情况下连接到测量资源以进行低电位测试。通道可还包括直接数字合成器和处理电路，其产生经校准的测试信号、执行模数转换和执行频域变换，输出使用唯一频率/相位锁定以用于经协调的低延迟并行操作。

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作者：情报员