地瓜烘烤房的核心热源通常并非直接来源于火焰，而是通过辐射与对流复合传热机制实现。烘烤房内壁的耐火砖或陶瓷板在加热后，其表面温度可达200至300摄氏度，这些热表面会持续向四周发射波长在3至8微米之间的远红外线。地瓜中的水分与淀粉分子在吸收这些特定波长的红外辐射后，分子振动加剧，内部温度快速升高，这一过程不依赖空气作为中间介质，因此即便在烘烤房角落，空气对流较弱，远红外线仍能直达地瓜表面。
烘烤房角落的温度均匀性通常低于中心区域，但实际烘烤效果却可能更优，原因在于角落位置受到多重热边界的影响。烘烤房墙壁与地面交界处形成一个三面围合的空间，此处热辐射来自两个垂直墙面与一个水平面，地瓜表面接收的辐射通量密度比在开阔区域高出约15%至20%。同时，角落的墙壁温度往往比空气温度低约10至15摄氏度，形成局部温差梯度，促使地瓜表皮水分向墙壁低温区迁移，从而加速表面脱水。这一脱水过程使地瓜表皮形成一层致密的焦糖化层，厚度约0.2至0.5毫米，该层能有效锁住内部水分并阻止淀粉酶失活后的过度糖分流失。
烘烤房内空气湿度并非均匀分布，角落区域由于自然对流受限，水蒸气扩散速度较慢，局部相对湿度通常比中心高5%至10%。较高的湿度环境延缓了地瓜内部水分向外蒸发的速率，使淀粉在60至70摄氏度区间内得以更充分糊化。糊化过程中，淀粉颗粒吸水膨胀并破裂，释放出短链糊精，这些糊精在后续高温阶段（80至100摄氏度）与还原糖发生美拉德反应，生成呋喃酮、麦芽酚等挥发性风味物质。地瓜中特有的β-胡萝卜素在角落弱光环境中分解速率降低，保留率比直接受光区域高约12%，这解释了角落烘烤地瓜颜色更鲜亮的原因。
烘烤房角落的空气流动速度通常不足0.1米每秒，属于微气流状态。在这种条件下，地瓜表面与空气之间的对流传热系数显著下降，热传导主要依赖辐射与接触传导。地瓜与烤架或砖面接触的区域，由于压力作用，接触热阻减小，局部温度可高于非接触面8至12摄氏度。这种不均匀的热分布使地瓜内部形成复杂的温度梯度场：靠近接触面的区域淀粉酶活性在50至60摄氏度区间维持更长时间，促进麦芽糖生成；远离接触面的区域则因升温较慢，细胞壁中的果胶在70摄氏度以上发生β-消除反应，使果肉软化并产生黏性口感。
地瓜烘烤房角落的保温性能通常优于其他区域，因为墙角结构减少了热量向外部散失的路径。烘烤房外墙通常由砖石或保温材料构成，角落处墙体厚度比非角落区域增加约一块砖的尺寸，热阻值相应提升0.3至0.5平方米·开尔文每瓦。这种局部热阻增大导致角落内壁温度稳定在较高水平，波动幅度比中心区域小约3摄氏度。地瓜在恒温环境下烘烤时，内部酶促反应速率保持恒定，蔗糖合成酶持续将淀粉分解产物转化为蔗糖，使地瓜甜度在烘烤完成后达到峰值。若温度波动超过5摄氏度，酶活性会突然下降，蔗糖转化率降低约20%。
烘烤房角落中残留的微量矿物质元素也会影响地瓜的烘烤效果。墙壁表面或烤架缝隙中积累的钙、镁、铁离子，在长期高温作用下部分转化为氧化物或碳酸盐。当地瓜表面水分蒸发时，这些离子随水蒸气在表皮上重新结晶，形成微小的盐斑。钙离子与地瓜表皮中的果胶酸结合，增强细胞壁机械强度，使烘烤后的地瓜皮不易开裂；铁离子则可能催化表皮中的酚类物质氧化，生成褐色聚合物，加深表皮色泽。这种矿物沉积过程在烘烤房角落尤为明显，因为角落处水分蒸发速率较慢，离子有更充裕时间在表皮上分布与反应。
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