来源：新浪证券-红岸工作室

9月20日消息，国家知识产权局信息显示，杭州格林达电子材料股份有限公司、北京科技大学申请一项名为“一种低泡型非离子Gemini表面活性剂及其制备方法”的专利，授权公告号CN118084630B，授权公告日为2026年9月18日。申请公布号为CN118084630A，申请号为CN202410212471.2，申请公布日期为2026年9月18日，申请日期为2024年2月27日，发明人邢攸美、王国杰、马杰文、方伟华、尹云舰、胡涛、李雅琪、张之钧、胡斌、吴振，专利代理机构杭州大道知识产权代理有限公司，专利代理师奚丽萍，分类号C07C41/03、C07C43/205、C09K23/42。

专利摘要显示，本发明公开了一种低泡型非离子Gemini表面活性剂及其制备方法，包括如下步骤：将二叔戊基氢醌溶于乙腈中，加入到反应容器中；在反应容器中加入催化剂，并通过惰性气体置换反应容器中的空气；将反应容器升温，再通入环氧乙烷进行反应；反应后，将反应容器的温度将至室温，收集得到紫红色液体粗产物；将得到的紫红色液体粗产物进行旋蒸，再用二氯甲烷或乙酸乙酯进行萃取，之后再次进行旋蒸，干燥处理后得到低泡型非离子Gemini表面活性剂。本发明一种低泡型非离子Gemini表面活性剂，作为半导体及新型显示领域湿电子化学品的表面活性剂添加剂，加入后能够有效降低湿电子化学品的接触角，增强其浸润性，同时降低使用过程的起泡性。

格林达是国内湿电子化学品领域领先企业，核心产品超净高纯显影液打破海外技术垄断，具备突出的国产替代优势。公司成立于2001年10月17日，2020年8月19日登陆上海证券交易所，注册及办公地点均位于浙江省杭州市。

格林达主营业务为超净高纯湿电子化学品的研发、生产和销售，申万行业分类隶属于电子-电子化学品Ⅱ-电子化学品Ⅲ，当前覆盖半导体产业、半导体、集成电路三大概念板块。

2026年上半年，格林达实现营业收入3.03亿元，在36家同行业可比公司中排名第33位，同期行业营收第一名西陇科学为43.07亿元、第二名国瓷材料为25.13亿元，行业平均营收11.18亿元，行业中位数为8.76亿元；公司营收结构高度集中，湿电子化学品业务贡献收入2.95亿元，占比达97.35%，副产品收入590.27万元占比1.95%，其他业务收入214.01万元占比0.71%。当期公司实现净利润6093.14万元，行业排名第21位，同期行业净利润第一名鼎龙股份为5.63亿元、第二名安集科技为5.32亿元，行业平均净利润1.12亿元，行业中位数为6607.66万元。

指标类别 具体指标 数值情况 核心经营数据 2026年上半年营业收入 3.03亿元 核心经营数据 2026年上半年净利润 6093.14万元 核心经营数据 湿电子化学品营收占比 97.35%

杭州格林达电子材料股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1一种长效高精细铝蚀刻液发明专利公布CN202611103655.02026-07-23CN122773352A2026-09-18胡涛、邢攸美、倪芸岚、徐钉、王婷婷、祝樨蕾、赵禹鸣、周利超、何婷茹、尹云舰、方伟华、范霖坤、周轶林2一种光刻胶稀释液组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610583982.42026-04-29CN122284219A2026-06-26邢攸美、李盈盈、高立江、王小眉、周轶林、范霖坤、周利超、何婷茹、尹云舰、方伟华、赵禹鸣、祝樨蕾、王婷婷3一种高效晶圆清洗的非离子Trimeric表面活性剂发明专利实质审查的生效、公布CN202511961452.02025-12-24CN121758320A2026-03-31邢攸美、王国杰、胡斌、刘佳妮、吴振、胡涛、蒋慧儿、尹云舰、方伟华、何婷茹、施珂、范霖坤4一种正性光刻胶显影用gemini表面活性剂及其显影液发明专利实质审查的生效、公布CN202511947713.32025-12-23CN121717695A2026-03-24邢攸美、王国杰、王小眉、应挺、徐雯、谢良槐、胡涛、吴振、胡斌、蒋慧儿、尹云舰、方伟华、章帅迪、倪芸岚、段喻林5一种负性光刻胶显影用gemini表面活性剂及其显影液发明专利实质审查的生效、公布CN202511947681.72025-12-23CN121717694A2026-03-24蒋慧儿、邢攸美、胡涛、高立江、王国杰、徐小波、应挺、吴振、尹云舰、方伟华、赵禹鸣、祝樨蕾、徐钉6一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物发明专利授权CN202510243258.22025-03-03CN119781262B2025-11-28胡涛、邢攸美、高立江、王小栋、方伟华、何婷茹、赵禹鸣、章帅迪、洪明卫、施珂、李林佳7一种高效连续的离子交换树脂系统实用新型授权CN202520354840.12025-03-03CN223875064U2026-02-06胡涛、邢攸美、徐钉、方伟华、尹云舰、范霖坤、王婷婷、李盈盈、施珂、余红刚8一种非离子Gemini表面活性剂及其制备方法和应用发明专利授权、公布CN202410711463.22024-06-04CN118724686B2025-04-08邢攸美、尹云舰、王国杰、马杰文、方伟华、李雅琪、胡涛、张之钧、胡斌、吴振、徐钉、沈健9一种低表面张力和低起泡性的十二碳炔基非离子Gemini表面活性剂及其制备方法发明专利授权、公布CN202410622105.42024-05-20CN118580140B2025-02-18邢攸美、王国杰、李雅琪、方伟华、尹云舰、胡涛、马杰文、张之钧、胡斌、吴振10一种低泡型非离子Gemini表面活性剂及其制备方法发明专利授权CN202410212471.22024-02-27CN118084630B2026-09-18邢攸美、王国杰、马杰文、方伟华、尹云舰、胡涛、李雅琪、张之钧、胡斌、吴振11一种固体四甲基氢氧化铵制备装置实用新型授权CN202323422016.52023-12-15CN221637352U2024-09-03邢攸美、胡涛、徐钉、倪芸岚、章帅迪、金海安12一种低表面张力长效显影液的制备方法发明专利授权、公布CN202311144197.12023-09-06CN117187852B2024-06-25邢攸美、方伟华、蒋哲男、尹云舰、高立江、胡涛、张之钧、夏倩、倪芸岚、章帅迪、徐钉、李林佳、金海安13一种低表面张力长效显影液发明专利授权、公布CN202410879528.42023-09-06CN118668231B2025-02-11邢攸美、方伟华、蒋哲男、尹云舰、高立江、胡涛、张之钧、夏倩、倪芸岚、章帅迪、徐钉、李林佳、金海安14一种高粘度高纯液体的自动连续精准添加装置实用新型授权CN202320595039.72023-03-24CN219695655U2023-09-15倪芸岚、邢攸美、蒋哲男、张之钧、徐钉、方伟华、尹云舰、金海安、余红刚15低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310198224.72023-03-03CN117285985A2023-12-26高立江、邢攸美、蒋哲男、方伟华、尹云舰、徐钉、徐一航、倪芸岚16一种高效连续的有机系光刻胶剥离液制备系统实用新型授权CN202320301057.X2023-02-24CN219518607U2023-08-15蒋哲男、胡涛、邢攸美、刘永南、王小栋、方伟华、尹云舰、徐钉、章帅迪17一种高净自清洁深桶取样装置实用新型授权CN202222191924.72022-08-19CN218003005U2022-12-09邢攸美、李潇逸、张之钧、刘永南、章帅迪、倪芸岚、尹云舰、李林佳、施珂18一种高效连续的电子级氨水制备系统实用新型授权CN202220176752.32022-01-24CN216726689U2022-06-14蒋哲男、邢攸美、胡涛、高立江、王小栋、刘永南、王小眉、方伟华、尹云舰、施珂、沈健19一种低动态表面张力的高精细抗蚀剂剥离液组合物及其制备方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202210076546.X2022-01-24CN114280901B2022-07-22胡涛、邢攸美、高立江、王小栋、刘永南、徐一航、方伟华、尹云舰、蒋哲男、施珂20一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液用非离子表面活性剂的提纯方法及其显影液发明专利实质审查的生效、公布CN202110241380.82021-03-04CN112859551A2021-05-28李潇逸、邢攸美、方伟华、倪芸岚、尹云舰、高立江21一种适用于高纯电子化学品生产的模组式电解槽框实用新型授权CN202022146063.12020-09-27CN213266723U2021-05-25李潇逸、李欢、邢攸美、方伟华、陈东良、尹云舰、陈海刚22一种碱性废水中季铵盐阳离子含量的精确检测方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202010677277.32020-07-14CN111812088A2020-10-23李欢、邢攸美、方伟华、尹云舰、李潇逸23一种实验室用模块化喷淋式湿电子化学品评价设备实用新型授权CN202021381258.82020-07-14CN212722002U2021-03-16李潇逸、李欢、邢攸美、方伟华、施珂、谢良槐24一种从剥离液废液中回收有机溶剂和光刻胶的装置实用新型授权CN202020720676.92020-05-06CN212269760U2021-01-01胡涛、邢攸美、高立江、王小栋、王小眉、方伟华、尹云舰、施珂25一种IGZO薄膜蚀刻液发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202010371438.62020-05-06CN113621373B2023-01-17胡涛、邢攸美、李盈盈、王小眉、方伟华、尹云舰、施珂26一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN201911250769.82019-12-09CN111440613B2022-03-25胡涛、邢攸美、高立江、王小眉、李玉兴、王小栋、尹云舰、方伟华、施珂27一种适用于光刻工艺铜制程的无氟酸性刻蚀液及配制方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN201910309436.12019-04-17CN110105956A2019-08-09李潇逸、邢攸美、方伟华、尹云舰、李欢、洪明卫28一种玻璃减薄行业含氟玻璃减薄废液在线回收再利用的方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN201910007276.52019-01-04CN109626646A2019-04-16尹云舰、 刘志彪、 邢攸美29超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统实用新型授权CN201820818933.52018-05-30CN208493283U2019-02-15胡涛、邢攸美、高立江、王小眉、李玉兴、尹云舰、方伟华30一种水系光致抗蚀剂剥离液及其制备方法发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、发明专利申请公布CN201710532273.42017-07-03CN107357142B2021-01-26高立江、胡涛、王太刚、陈海刚、倪芸岚31一种ITO返工蚀刻液及其制备方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN201611231750.52016-12-28CN106701085A2017-05-24刘志彪、邢攸美、尹云舰、胡涛、陈虹飞32一种显影液组合物及其制备方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、发明专利申请公布CN201610861011.82016-09-29CN106227003A2016-12-14李盈盈、邢攸美、王海龙、洪明卫、尹云舰、王小眉、于晓芳33一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN201610860875.82016-09-29CN106479504B2018-07-17胡涛、倪芸岚、高立江、邢攸美、龚升、尹云舰、方伟华34一种用于ITO导电薄膜的高精细蚀刻液及其制备方法发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN201610860973.12016-09-29CN106479505B2018-09-28胡涛、刘志彪、陈虹飞、邢攸美、尹云舰35一种用于TFT铜钼叠层的双氧水系蚀刻液发明专利发明专利申请公布后的驳回、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN201610342582.02016-05-23CN105908188A2016-08-31洪明卫、邢攸美、李盈盈、高立江36显影液在线回收循环利用系统实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201520974377.72015-12-01CN205193430U2016-04-27邢攸美37四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法发明专利授权、著录事项变更、实质审查的生效、公布CN201510858688.12015-12-01CN105314770B2018-04-20邢攸美38一种直流降膜除雾器实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320668451.32013-10-29CN203577480U2014-05-07谭斌、梁小朝、黄源、尹云舰、严兵华、徐雅玲39一种可翻转的双屏手机实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320668452.82013-10-29CN203590273U2014-05-07梁小朝、黄源、尹云舰、严兵华、徐雅玲40一种折叠式的双屏平板电脑实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320668454.72013-10-29CN203588141U2014-05-07梁小朝、黄源、尹云舰、严兵华、徐雅玲41显影液中光刻胶树脂回收再利用装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320477099.52013-08-06CN203433267U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、李乔华、倪芸岚42一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320478076.62013-08-06CN203433266U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、陈栋其、王小眉43四甲基氢氧化铵提浓装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320478080.22013-08-06CN203545915U2014-04-16梁小朝、黄源、尹云舰、高立江、胡叔铭44一种四甲基氢氧化铵回收再利用装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320464008.42013-07-30CN203429267U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、罗江、王海龙45四甲基氢氧化铵回收再利用装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320463994.12013-07-30CN203429003U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、王海龙、罗江46一种电子级四甲基氢氧化铵生产装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320462139.92013-07-30CN203429266U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、罗江、王海龙47一种四甲基氢氧化铵提浓装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320463742.92013-07-30CN203428994U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、刘志彪、连杰48在线循环利用剥离液有机废气的装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320447931.72013-07-24CN203425676U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、连杰、龚升49半导体/面板厂有机废气净化的装置实用新型专利权的终止、专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320448115.82013-07-24CN203425693U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、连杰、龚升50利用乙醇蒸汽辅助半导体/面板生产中有机废气回收装置实用新型专利权人的姓名或者名称、地址的变更、授权CN201320449477.92013-07-24CN203425677U2014-02-12梁小朝、黄源、尹云舰、连杰、龚升