抛光悬浮剂是化学机械抛光（CMP）体系中的关键功能添加剂，其核心作用是使抛光液中的磨料颗粒保持均匀、稳定地悬浮分散，防止颗粒团聚和沉降。

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抛光悬浮剂根据化学组成主要分为以下三大类：
（一）无机类分散剂
通过在浆料中电离出阴离子或阳离子，吸附在粒子表面，增大粒子间的排斥作用。常见的有六偏磷酸钠等。
（二）有机高分子类分散剂
以高分子长链形式存在，包覆粒子表面发挥空间位阻作用。常见的包括聚丙烯酸钠、聚乙二醇衍生物、羧甲基纤维素等。例如在金刚石悬浮抛光液中，羧甲基纤维素就常被用作悬浮剂来增加黏度、防止金刚石颗粒沉降。
（三）表面活性剂类
分为阴离子型、阳离子型和非离子型，主要通过携带的亲水或亲油基团与粒子相互作用来控制悬浮分散性能。例如十二烷基硫酸钠（阴离子型）、十六烷基三甲基溴化铵（阳离子型） 等。