国家知识产权局信息显示,辉达公司申请一项名为“从低分辨率表示合成高分辨率3D形状的合成数据生成系统和应用”的专利,公开号CN122799039A,申请日期为2022年4月。
专利摘要显示,在各个的示例中,实现了深度三维(3D)条件生成模型,通过将隐式和显式3D表示合成到混合3D表示中,该模型可以使用简单的引导物——诸如粗体素、点云等——合成高分辨率的3D形状。本方法可以直接对重建的表面进行优化,允许更少伪影的更精细的几何细节的合成。本文描述的系统和方法可以使用可变形四面体栅格和可微行进四面体层,可变形四面体栅格编码离散符号距离函数(SDF),可微行进四面体层将隐式SDF表示转换为显式表面网格表示行进四面体。这种组合允许表面几何和拓扑结构进行联合优化,以及使用在表面网格上明确定义的重建和对抗性损失来生成细分的层次结构。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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