国家知识产权局信息显示，盖亚尼克斯股份有限公司申请一项名为“层叠结构体”的专利，公开号CN122826345A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，层叠结构体（10）具有：包含主面（11p）的衬底（11）、以及形成在主面（11p）上的缓冲膜（12）。衬底（11）由Si（100）衬底、或包含由Si（100）膜构成的SOI层的SOI衬底构成。缓冲膜（12）包含第一部分（PR1）和与第一部分（PR1）不同的第二部分（PR2）。第一部分（PR1）由含有选自除Hf以外的第四族元素中的一种以上的金属元素的第一金属氧化物构成，第二部分（PR2）由含有Hf的第二金属氧化物构成。第一金属氧化物及第二金属氧化物中的一者具有立方晶的晶体结构，且呈（100）取向，另一者具有四方晶的晶体结构，且呈（001）取向。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员