国家知识产权局信息显示，科思创有限公司申请一项名为“烯属不饱和低聚物、其制备方法及其在涂料组合物中的用途”的专利，公开号CN122826289A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，描述了含有烯属不饱和基团、硅烷基团和天冬氨酸酯基团和/或乙内酰脲基团的低聚物。还公开了生产和使用此类化合物的方法，如它们在涂料组合物，如适合施加到光学玻璃纤维基材上的涂料组合物中的用途。

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作者：情报员