国家知识产权局信息显示，杭州云栖极耀科技有限公司申请一项名为“一种通过原子层沉积在FZP制备抗辐射导热层的方法”的专利，公开号CN122811764A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明涉及一种通过原子层沉积在FZP制备抗辐射导热层的方法，包括：对已完成图形化加工的菲涅耳波带片基片进行清洗和干燥处理；将经处理后的基片置于原子层沉积反应腔室内，执行原位等离子体清洗和表面活化处理；向反应腔室内交替脉冲通入前驱体气体和反应气体，在菲涅耳波带片的金属带环表面及侧壁通过原子层沉积生长形成导热介质膜层；沉积结束后，对基片进行退火处理，消除导热介质膜层与金属带环之间的界面应力，得到包覆有抗辐射导热层的菲涅耳波带片。本发明的有益效果是：本发明形成三维协同散热体系，有效降低了金属带环在强辐射通量下的温度梯度，避免了因局部过热导致的纳米级结构热膨胀位移或金属软化失效。

天眼查资料显示，杭州云栖极耀科技有限公司，成立于2025年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本161.9984万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州云栖极耀科技有限公司共对外投资了1家企业，专利信息13条。

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作者：情报员