国家知识产权局信息显示，合肥维信诺科技有限公司申请一项名为“矫正装置、光刻曝光机及掩模版矫正方法”的专利，公开号CN122815774A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本申请适用于光刻技术领域，提供了一种矫正装置、光刻曝光机及掩模版矫正方法。其中，所述矫正装置包括检测传感器，用于采集光刻曝光机的交换手将掩模版置入掩膜版缓冲区后对掩膜版缓冲区内的掩模版进行采集得到的传感器数据；处理器，与检测传感器和交换手连接，用于获取传感器数据，基于传感器数据，计算掩膜版在掩膜版缓冲区内的当前位姿及当前位姿与掩模版存储位对应的标准位姿之间的位姿偏移信息，并基于位姿偏移信息，输出位姿控制指令，位姿控制指令用于指示交换手调整掩膜版缓冲区内掩膜版的位姿。本申请的实施方式能够实现对掩模版在掩膜版缓冲区内的位姿进行矫正，降低光刻曝光机的宕机率及人为进行故障处理的频率。

天眼查资料显示，合肥维信诺科技有限公司，成立于2018年，位于合肥市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2200000万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥维信诺科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目999次，专利信息4699条，此外企业还拥有行政许可43个。

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作者：情报员