国家知识产权局信息显示，长江存储控股股份有限公司申请一项名为“半导体器件、形成方法、存储器装置及半导体结构”的专利，公开号CN122825445A，申请日期为2025年3月。

专利摘要显示，本公开涉及半导体领域，提供了一种半导体器件、形成方法、存储器装置及半导体结构。半导体器件包括：n层半导体结构，阵列排布的存储结构，以及，第一接触结构；n大于1。n层半导体结构沿第一方向堆叠。每层半导体结构包括：间隔设置的第一导电层和第二导电层。第一导电层连接存储结构的第一端，第二导电层连接存储结构的第二端。第一接触结构沿第一方向贯穿至少两层半导体结构，且连接至少两层第一导电层。

天眼查资料显示，长江存储控股股份有限公司，成立于2016年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1782000万人民币。通过天眼查大数据分析，长江存储控股股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目3次，专利信息109条，此外企业还拥有行政许可4个。

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作者：情报员