国家知识产权局信息显示,京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“缺陷生成根因追溯方法和系统”的专利,公开号CN122819474A,申请日期为2026年7月。
专利摘要显示,本申请提供了一种缺陷生成根因追溯方法和系统,涉及工业智能检测与故障诊断技术领域。该方法包括获取缺陷生成模型,用于根据正常的产品图像和设定的物理参数空间中的物理参数合成模拟缺陷图像,以构建模拟缺陷图像和物理参数的映射关系。获取待诊断的真实缺陷图像,并利用缺陷生成反演引擎根据真实缺陷图像和映射关系从物理参数空间中反演出第一物理参数组合。利用因果推理引擎根据真实缺陷图像对应的关联设备数据与第一物理参数组合进行联合推理,输出根因诊断报告,根因诊断报告包括导致缺陷的故障生产设备和故障模式。根据本方案,实现从缺陷表现感知到缺陷物理根因认知的根本性跨越,缩短故障人工排查时间,降低计划外停机损失。
天眼查资料显示,京东方科技集团股份有限公司,成立于1993年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3704432.8064万人民币。通过天眼查大数据分析,京东方科技集团股份有限公司共对外投资了73家企业,参与招投标项目363次,财产线索方面有商标信息790条,专利信息69170条,此外企业还拥有行政许可48个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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